Один из самых распространенных методов нанесения защитно-декоративных покрытий является электрохимическое никелирование. Данный метод используется в различных сферах деятельности: авиа-, автомобиле- и приборостроении, в производстве предметов бытового назначения, лабораторных и медицинских инструментах. В настоящее время в технологии нанесения блестящих никелевых покрытий применяют одновременно несколько различных добавок, которые вводят в состав электролита для уменьшения питтингообразования, снижения внутренних напряжений, выравнивания поверхности и т.д. Использование большого наименования добавок в процессе электрохимического никелирования сильно затрудняет корректировку электролита, поэтому проводятся исследования направленные на уменьшение количества применяемых добавок в электролит никелирования. Однако, снижение количества таких соединений не должно снижать качество получаемых никелевых покрытий [1].Для исследования процесса электрохимического никелирования применяли сернокислый электролит, состоящий из сульфата никеля (основной источник ионов никеля), хлорида натрия (депассиватор анода) и борной кислоты (буферная добавка). В данный электролит вводили селенсодержащие органические добавки – 6-оксо-3,9-диселенаундекан и 5-оксо-2,8-диселенанонан – и устанавливали оптимальные режимы электролиза, при которых образуются качественные блестящие покрытия. В результате проведенных исследований были получены блестящие никеливые покрытия с добавкой 6-оксо-3,9-диселенаундекан при концентрации добавки 0,01-0,15 г/л, плотности тока 13-18 А/дм2 с выходом по току 92-99 %. Пористость полученных покрытий не превышала 3 пор/см2.При введении в электролит никелирования 5-оксо-2,8-диселенанонана получены блестящие никелевые покрытия при концентрации добавки 0,01-0,02 г/л и плотности тока 5-7 А/дм2 с выходом по току 94-95 %. Пористость полученных покрытий не превышала 10 пор/см2.В таблице 1 представлены результаты энергодисперсионного рентгеноспектрального анализа состава никелевого покрытия с различными добавками, выполненного на электронном микроскопе HITACHI TM 3000 с датчиком для количественного определения содержания элементов X-ray SDD XFlash 430H.  Таблица 1 – Результаты энергодисперсионного рентгеноспектрального анализа состава никелевого покрытия с различными добавками.ЭлементСодержание элементов в никелевом покрытии, масс.%покрытие с добавкой 6-оксо-3,9-диселенаундеканпокрытие с добавкой 5-оксо-2,8-диселенанонанНикель (Ni)95,1688,35Углерод (C)2,116,92Кислород (O)1,843,51Селен (Se)0,891,22 Установлено, что в состав покрытия, кроме никеля включается углерод, кислород и селен. Вероятно, данные элементы способствуют изменению текстуры никелевого покрытия и это дает блеск на его поверхности. Таким образом, исследуемые селенсодержащие органические соединения можно применять в качестве блескообразующих добавок.