ВЛИЯНИЕ ОРГАНИЧЕСКИХ СОЕДИНЕНИЙ НА ОСНОВЕ ЭТИЛЕНХЛОРГИДРИНА НА ПРОЦЕСС ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОГО НИКЕЛИРОВАНИЯ
Аннотация и ключевые слова
Аннотация (русский):
Изучено влияние продуктов, получаемых из этиленхлоргидрина – 2-гидроксиэтилизотиуроний хлорида, моно- и дихалькогенопроизводных диэтиленгликоля, на процесс электрохимического никелирования. Подобраны концентрации органической добавки и режимы электролиза, позволяющие получить блестящее никелевое покрытие

Ключевые слова:
блестящее никелирование, органические добавки, этиленхлоргидрин, 2-гидроксиэтилизотиуроний хлорид
Текст
Текст произведения (PDF): Читать Скачать

Для повышения качества, надежности и долговечности изделий широко применяют гальванические покрытия, которые не только защищают металлы от коррозии, но и придают им красивый внешний вид. Для защитно-декоративной отделке деталей применяют блестящие никелевые покрытия, получаемые непосредственно из электролитов с блескообразующими органическими добавками.

В промышленности в основном применяют сернокислый электролит, содержащий сульфат никеля, хлорид никеля или хлорид натрия и борную кислоту. В данный электролит вводят органические вещества, которые по своей способности влиять на качество никелевого покрытия подразделяются на 2 класса: первый и второй. К первому классу отнесены добавки, содержащие группу SO2 в сочетании с другими заместителями, в том числе ароматической природы. Второй класс блескообразователей не содержит серу, но включает различные ненасыщенные группировки (C=O, C=N, C=C и др.). Также электролит никелирования может содержать различные дополнительные компоненты для снижения внутренних напряжений, уменьшения питтингообразования, улучшения смачиваемости поверхности и т.д. Все это разнообразие добавок сильно затрудняет процесс корректировки электролита, поэтому проводятся научные исследования по созданию новых блескообразующих добавок, позволяющих снизить количество вводимых в электролит добавок [1].

В гальванотехнике в качестве блескообразователей широко применяют тиомочевину и ее производные [2], серосодержащие органические соединения [3], а также ненасыщенные и насыщенные спирты [4]. Например, в работе [4] исследован N-этанолсахарин, в котором фрагмент HOCH2CH2- присоединен к сахарину. Учитывая эти данные, нами изучено в качестве блескообразующей добавки органическое соединение, полученное на основе этиленхлоргидрина.

В Иркутском институте химииполучена изотиурониевая соль на основе этиленхлоргидрина по реакции[5]:

 

Эта соль сочетает в своем составе изотиурониевую и спиртовую функции.

С использованием термостатируемой гальванической ячейки в сульфатном электролите никелирования при температуре 500 С, были получены блестящие никелевые покрытия при плотности тока 2-7 А/см2, рН 4-5 и концентрации добавки 0,15-0,4 г/л. Все полученные никелевые покрытия имеют блестящую ровную поверхность, а степень блеска составила от 130 до 152 единиц, что составляет 98-110 % относительно блестящих никелевых покрытий, полученных в аналогичном электролите с тиомочевиной.

Список литературы

1. Мамаев, В.И., Кудрявцев, В.Н. Никелирование. М.: Изд. РХТУ им. Д.И. Менделеева. 2014. - 192 с.

2. Сосновская, Н.Г., Истомина, Н.В., Синеговская, Л.М., Розенцвейг, И.Б., Корчевин, Н.А. Электроосаждение блестящих никелевых покрытий из сульфатного электролита в присутствии изотиурониевых солей // Гальванотехника и обработка поверхности. 2019. Т. 27. № 4. С. 4-11.

3. Скнар, И.В., Скнар, Ю.Е., Данилов, Ф.И. Закономерности электро-осаждения никелевых гальванопокрытий в присутствии некоторых серосодер-жащих органических добавок // Вопросы химии и химической технологии. 2008. № 4. С. 156-159.

4. Nakamura, Y., Kaneko, N., Watanabe, M., Nezu, H. Effects of saccharin and aliphatic alcohols on the electrocrystallization of nickel // Journal of Applical Electrochemistry. 1994. V/24. P.227-232.

5. Вшивцев, В.Ю., Леванова, Е.П., Грабельных, В.А., Сухомазова, Э.Н., Албанов, А.И., Клыба, Л.В., Жанчипова, Е.Р., Руссавская, Н.В., Корче-вин, Н.А. Халькогенсодержащие аналоги этиленгликоля и его производных // Журнал общей химии. 2008. Т. 78. № 4. С. 627-632.

Войти или Создать
* Забыли пароль?