OBTAINING HIGH NICKEL COATINGS IN THE PRESENCE OF TRIFLUOROACETIC ACID
Abstract and keywords
Abstract (English):
The influence of a fluorine-containing compound on the process of electrochemical nickel plating in sulfate and acetate-chloride electrolytes is considered

Keywords:
nickel plating, acetate-chloride electrolyte, trifluoroacetic acid, gloss, current efficiency
Text
Publication text (PDF): Read Download

Процесс никелирования является одним из наиболее распространенных в гальванотехнике. Сочетание защитно-декоративных и физико-химических свойств никелевых покрытий делает их очень востребованными в различных областях промышленности и предметах повседневного использования. Постоянно возрастающие требования к качеству получаемых покрытий, а также современные тенденции, стимулируют проведение широкомасштабных научно-исследовательских работ в области никелирования, направленных на обеспечение формирования блестящих покрытий.

Никелевые покрытия хорошо полируются до зеркального блеска и приобретают красивую декоративную поверхность, обладающую стойкими свойствами, но при этом теряется часть слоя никеля. Именно поэтому актуальным является получение блестящих покрытий непосредственно при электролизе, где в электролит никелирования вводят специальные блескообразователи[1].

В работе исследуется трифторуксусная кислота (CF3COOH) – как возможная блескообразующая фторорганическая добавка (Б-50) в сульфатный и ацетатно-хлоридныйэлектролиты никелирования [2].

Состав сернокислого электролита никелирования: NiSO4 • 7Н2О – 270 г/л, NaCl – 15 г/л, H3BO3 – 40 г/л. Состав ацетатно-хлоридного электролита никелирования: Ni(CH2COOH)•4H2O – 75 г/л, HCI – 1,5 мл/л, CH3COOH – до рH 4,5 (14мл/л). Температура электролита при электролизе поддерживалась 50 °С.

В ходе исследований было установлено, что в сульфатном электролите при различных концентрациях (с) добавки Б-50 и катодных плотностях тока (iк) – образуются матовые покрытия. В ацетатно-хлоридном электролите, при определенных условиях, возможно получить полублестящие покрытия – результаты экспериментов представлены в таблице.

Таблица

Влияние концентрации добавки Б-50 и катодной плотности тока на качество никелевых покрытий и выход по току (ВТ) в ацетатно-хлоридном электролите

c, г/л

iк, А/дм2

ВТ, %

Примечание

1

5

91,7

Интенсивное выделение водорода,

покрытие равномерное, матовое

1

10

98

2

5

94,9

Покрытие полублестящее

2

7

94,6

Покрытие полублестящее по центру

2

10

104,3

Матовое покрытие, по краям «пригорает»

2,5

3

92,2

Равномерное покрытие, блестящее

2,5

5

95,8

Равномерное покрытие, полублестящее

2,5

10

95,6

Покрытие блестящее по центру, матовое по краям

3

3

111,0

Равномерное покрытие, блестящее

3

5

96,4

Равномерное покрытие, блестящее

3

7

104,4

Покрытие блестящее по центру, матовое по краям

3

10

97,4

Покрытие блестящее по центру, матовое по краям
(в большей степени, чем при 7А/дм2),

3,5

3

100,1

Равномерное покрытие, блестящее

3,5

5

101,1

Равномерное покрытие, полублестящее, матовое по краям

3,5

10

107,7

Матовое покрытие, питтинг

 

Как можно заметить из таблицы, в присутствии добавки Б-50 возможно получение различных покрытий по степени блеска – от матовых и полублестящих до блестящих. При этом отмечено, что блестящие покрытия образуются при концентрации добавки от 2,5 г/л, при относительно низких катодных плотностях тока от 3-5 А/дм2. Увеличение плотности тока свыше 7 А/дм2 приводит к потере блеска и образованию матовых покрытий. Стоит также отметить, что покрытия отличаются равномерностью, а процесс протекает с высоким выходом по току. Работа в этом направлении будет продолжена.

References

1. Cupak, T.E. «Vysokoproizvoditel'nye processy elektroosazhdeniya nikelya i splava nikel'-fosfor iz elektrolitov, soderzhaschih karbonovye kisloty»: avtoreferat dissertacii na soiskanie uchenoy stepeni doktora tehnicheskih nauk / Tat'yana Evgen'evna Cupak; RHTU. – Moskva, 2008. – 20 s.

2. Boycova, A.Yu. Ftorsoderzhaschie soedineniya v processeelektrohimichesko gonikelirovaniya / A.Yu. Boycova, T.V. Kahanova, N.G. Sosnovskaya, N.A. Korchevin // Sovremennye tehnologii i nauchno-tehnicheskiy progress. – 2023, № 10. – S. 21-22.

Login or Create
* Forgot password?