Asymptotic stability of temperature regime in the process of polycrystalline silicon production was investigated
process of producing polycrystalline silicon, stationary motion, asymptotic stability
Рассмотрим процесс производства поликристаллического кремния (). Смесь трихлорсилана (
) и водорода (
) подается в реактор, где трихлорсилан восстанавливается и кремний осаждается на стержнях-основах, разогретых до оптимальной температуры 1100-1150 °С по реакции:
Когда температура ниже оптимальной повышается степень превращения трихлорсилана в тетрахлорид кремния и уменьшается выход кремния. При увеличении температуры возрастают энергозатраты, поэтому необходимо поддерживать постоянный температурный режим.
Рассмотрим двумерное движение парогазовой смеси в прямоугольном сечении реактора получения поликристаллического кремния.
|
(1) |
|
(2) |
|
(3) |
|
(4) |
В уравнениях (1)–(4) – проекция скорости на ось
,
– проекция скорости на ось
,
– давление,
– температура.
Стационарное движение
|
(5) |
является частным решением системы уравнений (1)-(4).
Рассмотрим отклонения от стационарного движения
|
(6) |
Подставим формулы (6) в уравнения (3) и (4). После преобразований получим:
|
(7) |
|
|
(8) |
|
Введем в рассмотрение функционал Ляпунова
|
(9) |
где . Под записью (9) будем понимать интеграл, распространенный на всю площадь сечения реактора. Функционал (9) определенно положителен и непрерывен по мере
|
(10) |
Производная функционала в силу уравнения (8) определенно отрицательна. На основании теоремы [1] можно сделать вывод, что стационарное движение (5) асимптотически устойчиво по мере (10).
1. Sirazetdinov T.K. Ustoychivost' sistem s raspredelennymi para-metrami. / T. K. Sirazetdinov. – Novosibirsk: Nauka. – 1987.